پاسخ به:مقالات خلاء

در اين پژوهش اثر ميزان تخلخل برخواص فتوديودي نمونه هاي چندلايه اي CdO/PSi/Si روش طيف سنجي تونلي روبشي (SpectroscopyScanning Tunneling) مطالعه شد. لايه سيليكن متخلخل (PSi) كمك آندايزالكتروشيميايي سيليكين نوع p ولايه اكسيد كادميم (CdO) به روش لايه نشاني ليزر پالسي و در فشار 10 torr ساخته شد. نمونه هارا در هوا و به مدت 10 دقيقه در دماي 500C پخت كرديم تا كمبود اكسيژن در آنها جبران شود. ضخامت و قطر حفرات لايه متخلخل، و مورفولوژي لايه اكسيد كادميم به روشهاي AFM و SEM بررسي شدند. طيف XRD و طيف عبور اپتيكي به منظور بررسي خواص كريستالي و تعيين شكاف انرژي اكسيد كادميم استفاده شدند. با تغيير پارامترهاي موثر در آندايز الكتروشيميايي سيليكن، نمونه هاي CdO/PSi/Si با درصد تخلخل هاي مختلف ساخته شدند. بررسي منحني جريان - ولتاژ نمونه ها در حضور نور و تاريكي به روش طيف سنجي تونلي روبشي (STS) وجود يك درصد تخلخل بهينه را به منظور بهبود خواص فتوديودي نمونه ها نشان داد.