پاسخ به:مقالات مهندسي سطح و عمليات حرارتي
دوشنبه 28 فروردین 1391 8:39 PM
 85: بررسي جدايش و انباشت سطحي مس در لايه هاي نانومتري (Ni/Cu/Si(100 حين لايه نشاني و عمليات حرارتي  |
| رسولي رضا، احديان محمدمهدي، ايرجي زاد اعظم |
| سمينار ملي مهندسي سطح و عمليات حرارتي 1385;ارديبهشت 1385(7) |
| کلید واژه: |
|
خلاصه:
در اين مقاله انباشت سطحي زيرلايه مس حين لايه نشاني نيكل و نيز در حين عمليات حرارتي در سيستم Ni/Cu/Si(100) مورد بررسي قرار گرفته است به منظور بررسي سطح در مقياس نانومتري از روش طيف نگاري XPS استفاده گرديد. با استفاده از ميكروسكوپ نيروي اتمي (AFM) كيفيت لايه ها و زبري سطح بررسي شد و با اندازه گيري زاويه تماسي قطرات ميكروليتري آب، انرژي سطحي نمونه ها مقايسه گرديدند. نتايج نشان مي دهد انباشت سطحي مس حين لايه نشاني با افزايش ضخامت لايه نيكل در محدوده 2-4nm كاهش يافته و در ضخامت بيش از 4nm، مس روي سطح مشاهده نمي گردد تحليل نتايج به روش Tougaard و همچنين استفاده از شدت نسبي قله ها نشان مي دهد كه مس انباشته شده به صورت يكنواختي با ضخامت تك لايه اتمي روي سطح قرار گرفته است آزمايش زاويه تماسي مشخص مي نمايد كه با كاهش ضخامت لايه نيكل، انرژي سطحي نمونه ها كاهش يافته و به انرژي سطحي مس نزديك مي شود تحليل Tougaard مشخص مي كند كه با انجام عمليات حرارتي در محدوده دمايي 150-185oC، مس انباشته شده افزايش يافته و به صورت جزاير سه بعدي در مي آيد كه اين پديده با نتايج AFM همخواني دارد. |
