پاسخ به:مقالات خلاء
شنبه 26 فروردین 1391 10:59 AM
 13: اثر فشار محفظه بررشد لايه هاي نانو كامپوزيت مس-كربن تهيه شده با كاربرد همزمان روشهاي لايه نشاني RF-Sputtering و RF-PECVD  |
| قدس الهي طيبه، وساقي محمدعلي، شفيع خاني عزيزاله، اوليايي پروين |
| كنفرانس ملي خلاء ايران 1386;بهمن 1386(3) |
| کلید واژه: |
|
خلاصه:
لايه هاي نانو كامپوزيت مس-كربن به روش همزمان RF-PECVD، RF-Sputtering از گاز استيلن و هدف مس رشد داده ايم. فرايند رشد در ناحيه اي كه با تغيير فشار محفظه فرايند به كندوپاش فيزيكي در توان ثابت و فشار بحراني 1.5 تا 3 پاسكال تبديل مي شود، بررسي مي شود. مقدار تخميني انرژي متوسط يونها در اين فشار بحراني نزديك به آستانه انرژي اسپاترينگ فيزيكي مس با يونهاي استيلن است. با استفاده از اين خاصيت و با تنظيم فشار اوليه از 1.3 تا 6.6 پاسكال لايه هاي نازك مس-كربن با محتويات مس متفاوت رشد داده ايم. محتويات مس اين لايه ها با استفاده از پراكندگي راترفورد (RBS) واسپكتروسكپي امواج ايكس (XPS) تعيين شد. تصاويرميكرسكوپ نيروي اتمي (AFM) و پراش امواج ايكس (XRD) بر تشكيل نانو ذرات مس دلالت دارند. |
