پاسخ به:مقالات خلاء
شنبه 26 فروردین 1391 10:57 AM
 8: نحوه تشكيل لايه اكسيدي روي InSb به روش PECVD و بررسي فصل مشترك توسط اندازه گيري C-V  |
| شيرين زاده حاجي، برناي زنوزي ثريا، صارمي نيا قدرت اله، سيمچي حميدرضا |
| كنفرانس ملي خلاء ايران 1386;بهمن 1386(3) |
| کلید واژه: |
|
خلاصه:
در اين پژوهش لايه هاي اكسيدي دي اكسي دسيليسيم (SiO2) سپس نيتريد سيليسيم (Si3N4) با ضخامت مناسب، بر روي پولك اينديم آنتيمونايد (InSb) به روش PECVD، نشانده شده است. مقدار ضخامت اكسيد يكي از عواملي است كه مي تواند در نشت سطحي جريان در آشكارساز تابش مادون قرمز در ساختار MIS نقش مهمي داشته باشد. كليه مراحل لايه نشاني، ضرورت غيرفعال سازي سطح نيمه هادي، كيفيت لايه نهشته شده، و تشخيص نوع زيرلايه به كمك منحني C-V در اين مقاله مورد بررسي قرار مي گيرد. |
