پاسخ به:دانلود کتب، جزوات و مقالات فیزیک
دوشنبه 1 خرداد 1391 2:51 PM
| 2 : علوم پايه (دانشگاه آزاد اسلامي واحد علوم تحقيقات) بهار 1387; 18(67 (ويژه نامه فيزيك)):11-18. |
| طراحي و ساخت دستگاه پوشش دهي شيميايي در حالت بخار با فيلامان گرم و کاربرد آن در رشد نانو ساختارها |
| قرآن نويس محمود*,مجتهدزاده لاريجاني مجيد,عشق آبادي مجيد,شكوهي علي,علي زاده پروين,نصيري سعيد |
| * مرکز تحقيقات فيزيک پلاسما، واحد علوم و تحقيقات، دانشگاه آزاد اسلامي، تهران، ايران |
|
از جمله روشهاي متداول لايه نشاني، پوشش دهي شيميايي در حالت بخار (Chemical Vapor Deposition) CVD مي باشد. با تکنيک HFCVD مي توان خواص الکتريکي، نوري و تريبولوژيکي سطح را تغيير داد. روشي است که مي توان از آن جهت ساخت فيلمهاي الماس استفاده نمود و در تکنولوژي نانو نيز از کاربرد بسيار برخوردار است. سيستم جهت ساخت لايه هاي نازک چون الماس و نانوتيونهاي کربني مورد استفاده قرار گرفت. |
| كليد واژه: HFCVD، طراحي و ساخت، نانو لوله هاي کربني، ويفر سيليکون، گاز استيلن |
 |
|
نسخه قابل چاپ |
